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       在众多研磨抛光材料中，稀土抛光粉以其优异的化学与物理性能，被广泛应用于现代光电子行业中的硬盘硅片、精密光学镜头、触摸屏、液晶屏、水晶水钻和灯饰品等领域的抛光。　　
       稀土抛光粉具有抛光速度快、光洁度高和使用寿命长的优点，与传统抛光粉-铁红粉相比，不污染环境，易于从沾着物上除去等优点。从1940年开始，高氧化铈含量的稀土抛光粉开始取代氧化铁(即铁红)用于玻璃抛光，成为玻璃抛光加工过程中的关键工艺材料之一。根据铈含量的不同，稀土抛光粉可分为高铈(>90%)、富铈(>70%)和低铈(<70%)三种。根据其应用领域的不同，稀土抛光粉产品可分为微米级、亚微米级、纳米级三类。高铈系稀土抛光粉，主要适用于精密光学镜头的高速抛光。中铈系稀土抛光粉，主要适用于光学仪器的中等精度中小球面镜头的高速抛光。低铈系稀土抛光粉和其它抛光粉用于对光学仪器，摄像机和照相机镜头等的抛光，这类抛光粉国内用量最多，约占国内总用量85%以上。抛光粉还有金刚石抛光粉(包括多晶金刚石微粉、单晶金刚石微粉、纳米金刚石微粉)、氧化铝系列微粉、氧化铈系列微粉、镀衣金刚石微粉等系列。　　
       我国的稀土抛光粉行业从无到有，从小到大，已走过了近50年的历史。目前，我国在生产、应用、市场和技术设备等方面已取得很大的成就和发展，在世界同行业中占据主导地位，并成为世界稀土抛光粉的生产和供应大国。供求关系是一个行业能否快速发展的前提。目前来看，常规产品市场需求已经饱和，但高性能稀土抛光材料难以满足需求。能够生产符合最新标准的硬盘玻璃基片、特殊高级光学镜头使用的高性能抛光粉及抛光液的企业很少。技术和标准的缺失形成了进入市场的壁垒，行业整体缺乏品牌效应。这就需要业内企业共同努力，进一步提高企业创新能力，加大研发力度，提供市场需求的产品，以保证抛光粉行业持续稳定的发展。