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一种砂带抛光双补偿装置

关键词 砂带 , 抛光|2017-10-20 09:24:01|行业专利|来源 中国涂附磨具网
摘要 申请号:201510859753.2申请人:江门市亚泰智能抛磨科技有限公司发明人:郑名逸;郑小军;郑建勇摘要:本发明公开了一种砂带抛光双补偿装置,包括有机架,所述机架上设置有砂带驱...

申请号:    201510859753.2    

申请人:    江门市亚泰智能抛磨科技有限公司    

发明人:    郑名逸; 郑小军; 郑建勇    

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摘要:

        本发明公开了一种砂带抛光双补偿装置,包括有机架,所述机架上设置有砂带驱动机构以及抛光头机构,所述机架前端设置有可前后滑动的滑座,所述滑座连接有用于保持其前压的第一动力机构,所述滑座上端面设置有转动轴,所述转动轴上铰接有调整架,所述调整架设置有前端的第一端部以及后端的第二端部,所述第一端部与抛光头机构连接,所述第二端部连接有用于推动调整架转动的第二动力机构。

主权利要求:

        1.一种砂带抛光双补偿装置,包括有机架(1),所述机架(1)上设置有砂带驱动机构(2)以及抛光头机构(3),其特征在于:所述机架(1)前端设置有可前后滑动的滑座(4),所述滑座(4)连接有用于保持其前压的第一动力机构(8),所述滑座(4)上端面设置有转动轴(401),所述转动轴(401)上铰接有调整架(5),所述调整架(5)设置有前端的第一端部(501)以及后端的第二端部(502),所述第一端部(501)与抛光头机构(3)连接,所述第二端部(502)连接有用于推动调整架(5)转动的第二动力机构(6)。

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