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       申请号：201510332607.4
       摘要：本发明公开了一种具有自清洗作用的抛光剂及抛光液，所述抛光剂包括以下重量份数的组分：二氧化硅5～40份、碱性化合物0.2～10份、椰子酸二乙醇胺缩合物0.001～1份、表面活性剂0.001～0.5份。本发明的抛光液，添加的椰子酸二乙醇胺缩合物可以吸附到有机物和磨料颗粒的表面，大大增加了有机物和磨料颗粒的表面活性，其与其他组分相互配合，协调作用，使抛光液具有自清洗作用；大大减少甚至完全避免了有机物和磨料颗粒在外延晶片表面的粘附；抛光后的晶片表面不会粘附有机物和磨料颗粒，或是仅有极少的粘附，后续勿需再用酸碱清洗，避免了对外延膜层产生腐蚀损坏，简化了清洗工序，节约了清洗成本，适合推广应用。
       申请人： 郑州磨料磨具磨削研究所有限公司
       地址： 450000 河南省郑州市高新区梧桐街121号
       发明(设计)人： 王乐军 徐明艳 代克 周万里
       主分类号： C09G1/02(2006.01)I
       分类号： C09G1/02(2006.01)I C09G1/18(2006.01)I
       主权项：  一种具有自清洗作用的抛光剂，其特征在于：包括以下重量份数的组分：二氧化硅5～40份、碱性化合物0.2～10份、椰子酸二乙醇胺缩合物0.001～1份、表面活性剂0.001～0.5份。
       公开号 ：104962199A
       公开日：  2015-10-07